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纳米金颗粒-用Litesizer 500测试粒度和Zeta电位

点击次数:932  更新时候:2025-06-03

5 nm纳米技术金颗(ke)料数(shu)(shu)量英(ying)文(wen)打击峰变小挨着理由粒级,Z🌼eta电(dian)势差-48.28 mV显(xian)著(zhu)高变了(le)(le)性;试验数(shu)(shu)据(ju)分析出(chu)现偏差的(de)原(yuan)因小,确(que)保安全靠受得(de)了(le)(le)可(ke)反复性作品。



1.先容

nm金(jin)粉(fen)末(mo)(mo)由(you)(you)于特意的(de)电(dian)学(xue)(xue)(xue)、磁(ci)学(xue)(xue)(xue)和(he)热(re)学(xue)(xue)(xue)大大咧咧,触及热(re)学(xue)(xue)(xue)、耐腐蚀、菌物和(he)医学(xue)(xue)(xue)专业很(hen)多范(fan)筹诱发存眷(juan)。因此由(you)(you)于是绝对(dui)化未变(bian)和(he)无毒害的(de),有提升空间用作中成药和(he)转基(ji)因植物组(zu)工作方(fang)面[1][2]。在(zai)曩(nang)昔的(de)十余年里(li)(li),静态变(bian)量光散(san)射(DLS)作罢为测验(yan)悬(xuan)浊(zhuo)液nm粉(fen)末(mo)(mo)粒度分布的(de)这种风驰手段。而(er)电(dian)泳光散(san)射(ELS)被(bei)大多数用作显(xian)然自动隐藏(zang)液中nm粉(fen)末(mo)(mo)的(de)未变(bian)性[3]。在(zai)这里(li)(li)篇(pian)巧用报告(gao)范(fan)文中,我们一起它是经过了(le)时(shi)安东帕Litesizer 500议器巧用DLS和(he)ELS理由(you)(you),来显(xian)然2 nm-10 nmnm金(jin)粉(fen)末(mo)(mo)的(de)悬(xuan)浊(zhuo)液未变(bian✃)性。

2.试穿

从Nanocs去推(tui)销(xiao)2 nm、5 nm和(he)10 nm微(wei)米金(jin)小(xiao)粒存(cun)蓄存(cun)款液。对粒度分析测(ce)试测(ce)试英(ying)(ying)(ying)文(wen)(wen)英(ying)(ying)(ying)文(wen)(wen),存(cun)蓄存(cun)款液用NaCl(2 mM)萃取到(dao)0.05 mg/mL并滤水(Whatman 200 nm针(zhen)孔滤水器)。DL🤡S测(ce)试测(ce)试英(ying)(ying)(ying)文(wen)(wen)英(ying)(ying)(ying)文(wen)(wen)用石英(ying)(ying)(ying)砂产品的(d🎃e)样(yang)品池(chi)在25 ℃温差、90°散射角前(qian)提下中(zhong)止。聚交身(shen)份和(he)使用两次由实验(yan)室设备积(ji)极主动(dong)调选(xuan)软件设置(zhi)。每(mei)个个测(ce)试测(ce)试英(ying)(ying)(ying)文(wen)(wen)英(ying)(ying)(ying)文(wen)(wen)波动(dong)四(si)(si)四(si)(si)次(大概(gai)是四(si)(si)次)。

对Zeta电ꦿ势(shi)测式图(tu)片(pian),存蓄液用聚磷酸盐抗震(zhen)液(0.1 mM)沉淀到0.05 mg/mL。ELS在体温25 ℃下,用安(an)东帕个性定制(zhi)的(de)Ω形状Zeta电势(shi)试样(yang)池(与制(zhi)约的(de)U形池呼告,Ω试样(yang)池更能保驾护航提(ti)供改变(bian)而(er)高再现的(de)测式图(tu)片(pian)研(yan)究成果[4]。每当测式图(tu)片(pian)在200 V电流(liu)值下日常运转200次,各个方面个测式图(tu)片(pian)出现数💟(shu)次(大约是数(shu)次)。

3.成绩与会商

DLS考(kao)试重大成就如表1提示。5 nm和10 nm粒状(zhuang)(zhuang)状(zhuang)(zhuang)状(zhuang)(zhuang)的(d♏e)规程数据(ju)出现偏差(cha)的(de)原因(yin)绝对的(de)小(约1%),而最(zui)低的(de)粒状(zhuang)(zhuang)状(zhuang)(zhuang)状(zhuang)(zhuang)规程数据(ju)出现偏差(cha)的(de)原因(yin)更(geng)好 (2 nm粒状(zhuang)(zhuang)状(zhuang)(zhuang)状(zhuang)(zhuang)为5.4 %)。

          &🐭nbsp;                                                     表1DLS测式(shi)的nm金磨料粒度

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5 nm纳米技(ji)术金颗料(liao)的粒(li)度分(fen)析煽动(dong)特(t🎀🍸e)征提取3种差同一(yi)权衡利(li)弊类型(xing)标准、质(zhi)量分(fen)数和金额,离别示于图1、图2和图3。


光强粒径散布(图1)显现一个绝对宽的峰,标明纳米金颗粒能够产生团圆。转换到体积粒径散布(图2),峰变窄并且峰地位挪动到靠近名义粒度巨细。转换到数目粒径散布(图3),峰进一步变窄并且峰地位加倍靠近名义粒度。

是以,以科(ke)粒(li)种数(shu)特(te)征的(de)大多(duo)数(shu)土样,包罗的(de)科(ke)粒(li)内(nei)径靠到5 nm。10 nm和5 nm纳米级金(jin)科(ke)粒(li)侧量的(de)Zeta电势离别是-18.68 ± 1.01 mV和-48.28 &p🐷lusmn; 4.35 mV(表2)。10 nm检测(ce)产品突(tu)显于图4。所有的(de)三个检测(ce)突(tu)显一款整洁而(er)钢硬的(de)峰(feng),峰(feng)相互(hu)数(shu)据(ju)误差小标注检测(ce)是靠得下然后可经常的(de)。